品名 | 叙述 | 詢價 |
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环戊酮 | 用作光刻胶及其他应用的溶剂。 | |
丙酮 | 常用于清洁和剥离光刻胶。 | |
四甲基氢氧化铵溶液 (TMAH) | 用于光刻中的光刻胶显影剂,并作为矽的蚀刻剂。 | |
氢氧化钠溶液 (NaOH) | 用于清洁和蚀刻。 | |
氢氧化钾溶液 (KOH) | 用于矽的异向性蚀刻以创建微结构。 | |
氢氧化铵 (NH4OH) | 用于清洁过程中去除有机和无机污染物。 | |
硫酸 (H2SO4) | 常与过氧化氢结合用于晶圆清洁,称为食人鱼溶液。 | |
磷酸 (H3PO4) | 用于蚀刻过程,特别是铝和氮化矽。 | |
硝酸 (HNO3) | 用于氧化和清洁矽表面。 | |
过氧化氢 (H2O2) | 主要蚀刻剂,适用于二氧化矽,用于晶圆清洁和表面准备。 | |
氢氟酸 (HF) | 主要蚀刻剂,适用于二氧化矽,用于晶圆清洁和表面准备。 | |
盐酸 (HCl) | 用于清洁矽晶圆和去除金属杂质。 |