高纯度大宗化学品

高纯度大宗化学品

高品質一般試劑到特殊用途試劑一應俱全
品名 叙述 詢價
环戊酮 用作光刻胶及其他应用的溶剂。
丙酮 常用于清洁和剥离光刻胶。
四甲基氢氧化铵溶液 (TMAH) 用于光刻中的光刻胶显影剂,并作为矽的蚀刻剂。
氢氧化钠溶液 (NaOH) 用于清洁和蚀刻。
氢氧化钾溶液 (KOH) 用于矽的异向性蚀刻以创建微结构。
氢氧化铵 (NH4OH) 用于清洁过程中去除有机和无机污染物。
硫酸 (H2SO4) 常与过氧化氢结合用于晶圆清洁,称为食人鱼溶液。
磷酸 (H3PO4) 用于蚀刻过程,特别是铝和氮化矽。
硝酸 (HNO3) 用于氧化和清洁矽表面。
过氧化氢 (H2O2) 主要蚀刻剂,适用于二氧化矽,用于晶圆清洁和表面准备。
氢氟酸 (HF) 主要蚀刻剂,适用于二氧化矽,用于晶圆清洁和表面准备。
盐酸 (HCl) 用于清洁矽晶圆和去除金属杂质。