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高纯度大宗化学品
高纯度大宗化学品
| 品名 | 叙述 | 詢價 |
|---|---|---|
| 丙二醇甲醚醋酸酯 (PGMEA) | 光刻中常用的光刻胶及其他材料的溶剂。 | |
| 丙二醇甲醚 (PGME) | 用于光刻中的光刻胶和涂层溶剂。 | |
| N-甲基-2-吡咯烷酮 (NMP) | 用于剥离光刻胶和清洁的溶剂。 | |
| 单乙醇胺 (MEA) | 用于清洁溶液和去除光刻胶。 | |
| 甲醇 | 用于清洁和各种过程中的溶剂。 | |
| 二甲基亚砜 (DMSO) | 用作各种有机化合物和清洁过程的溶剂。 | |
| 己內酮 | 用于制造光刻胶和清洁的溶剂。 | |
| γ-丁內酯 (GBL) | 用于光刻和清洁的溶剂。 | |
| 丁二醇 (BDG) | 用作溶剂和清洁用途。 | |
| 氢氟酸 (HF) | 主要蚀刻剂，适用于二氧化矽，用于晶圆清洁和表面准备。 | |
| 盐酸 (HCl) | 用于清洁矽晶圆和去除金属杂质。 | |
| Ammonium Fluoride (NH4F) | 用于二氧化矽 (SiO2) 和矽酸盐材料的蚀刻过程。 |